| 分子式 | |
| 形态 | 固体 |
| 存储条件 | 存放在干燥、洁净、无阳光直射、通风良好的贮存室内。 |
| 注意事项 | 次使用时应取出适量在玛瑙研钵中充分研磨至全部试样通过160目筛网,然后在815±10℃马弗炉中灼烧至恒重,取出置于干燥器中冷却至室温后再进行分析用。进行X射线荧光光谱分析时,若采用直接压片法,应注意样品粒度和标准样品粒度的一致性。每次使用完后及时盖好瓶盖。 |
纳米台阶高度标准物质
编号:GBW13954 浓度:1000
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
编号:GBW13965 规格:1片 浓度:9.92
X射线粒度测定用αSiO2标准物质
编号:GBW(E)130015 浓度:4组分
掺硼硅单晶片中低电阻率测试标准物质
编号:GBW(E)130026 浓度:8~12
二氧化硅膜系列标准物质
编号:GBW(E)130145 浓度:93
液相色谱仪检定用溶液标准物质硫酸奎宁/高氯酸水溶液
编号:GBW(E)130216 浓度:1×108